SPIE Photomask Technology + EUV Lithography Monterey
29. Sep. - 03. Okt. 2024 | Fachmesse und Konferenz für Technologien rund um Fotomasken, EUV-Lithografie und verwandte Prozesse
![SPIE Photomask Technology + EUV Lithography Monterey 2024 SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2024 Monterey](https://www.messeninfo.de/logos/spie_photomask_technology_logo_3652.png)
Die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography ist die weltweit führende Fachmesse und Konferenz für Fotomasken, EUV-Lithografie und verwandte Prozesse. Sie bietet eine wichtige Plattform für den Austausch zwischen Experten aus Industrie und Wissenschaft. Auf der Messe werden neueste Entwicklungen, innovative Technologien und aktuelle Herausforderungen der Branche präsentiert und diskutiert. Die Abkürzung SPIE steht für "International Society for Optics and Photonics", die als Veranstalter fungiert..
Die Messe findet jährlich im Monterey Marriott in Monterey statt und bietet Fachbesuchern sowie Ausstellern die Möglichkeit, sich über Fortschritte und Markttrends zu informieren und auszutauschen.
Die Hauptthemen der Messe umfassen Maskentechnologien wie Inspektion, Reparatur, Messtechnik, Reinigungstechnologien, EUV-Lithografie, Nanoimprint-Verfahren, Direktschreibtechniken sowie Wafer-Verarbeitung. Darüber hinaus werden neueste Werkzeuge, Simulationssoftware, Resists, Substrate und Ätzmaterialien vorgestellt. Diese breite Themenpalette etabliert die Messe als zentralen Treffpunkt der Photomaskenindustrie.
Die Veranstaltung zieht Aussteller und Besucher aus den Bereichen Mikroelektronik, Halbleitertechnologie und Nanotechnologie an und bietet eine wichtige Plattform sowohl für etablierte Unternehmen als auch für die akademische Gemeinschaft und Nachwuchskräfte. Letztere profitieren von speziellen Studentenzonen, Kursen und Veranstaltungen wie der Verleihung des EUV Tech Student Awards.
Ein besonderes Highlight sind die BACUS-Preise, die herausragende Leistungen in der Branche würdigen und die Bedeutung von innovativen Forschungs- und Entwicklungsarbeiten hervorheben.
Der Veranstaltungsort Monterey, mit seiner gut erreichbaren Lage und attraktiven Umgebung, sowie das zentral gelegene und hervorragend ausgestattete Monterey Marriott, bieten den idealen Rahmen für diese hochkarätige Veranstaltung.
Zusammenfassend ist die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography eine bedeutende Plattform für den fachlichen Austausch und bietet Gelegenheit, die neuesten Produkte und Dienstleistungen zu entdecken sowie sich mit führenden Köpfen der Branche zu vernetzen. Sie zeigt eindrucksvoll, wie durch ständige Innovationen die technologischen Grenzen der Mikroelektronik und verwandter Felder erweitert und neu definiert werden.
Die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography findet an 5 Tagen von Sonntag, 29. September bis Donnerstag, 03. Oktober 2024 in Monterey statt.
29.09.2024 - 03.10.2024*
Sonntag - Donnerstag, 5 Tage
Sonntag, 29.09. 10:00 – 16:00 Uhr
Montag, 30.09. 10:00 – 16:00 Uhr
Dienstag, 01.10. 10:00 – 16:00 Uhr
Mittwoch, 02.10. 09:30 – 16:00 Uhr
Donnerstag, 03.10. 10:00 – 16:00 Uhr
Zutritt:
für Fachbesucher
Turnus:
jährlich
Lokalzeit:
17:08 Uhr (UTC -07:00)
Messeort:
Monterey Marriott,350 Calle Principal, 93940 Monterey, Kalifornien, USA
Hotels
für Messetermin in Monterey
- Apple Kalender
- Google (online)
- Termin in Outlook
- Outlook.com (online)
- Yahoo (online)
- Zur Merkliste hinzufügen
- Erinnerung per E-Mail
- < 1000 Interessenten
SPIE
1000 20th St
WA 98227 Bellingham, USA
Tel: +1 (3)60 6763290
Fax: +1 (3)60 6471445
E-Mail-Adresse anzeigen
spie.org
-
01. - 05. Oktober 2023
Monterey
-
25. - 29. September 2022
Monterey
-
27. Sep. - 01. Okt. 2021
Online
-
21. - 25. September 2020
Online
-
15. - 19. September 2019
Monterey
-
17. - 20. September 2018
Monterey
-
11. - 14. September 2017
Monterey
-
12. - 14. September 2016
San José
-
29. Sep. - 01. Okt. 2015
Monterey
-
16. - 18. September 2014
Monterey
Messeort:
Monterey Marriott,350 Calle Principal, 93940 Monterey, Kalifornien, USA
Hotels
für Messetermin in Monterey
Angebote: Elektronenstrahlschreiber, Fotomasken, Fotomaskenherstellungsanlagen, Fotomaskenmaterial, Fotomaskenrohlinge, Laserstrahlschreiber, …
Haftungshinweis: Alle Angaben ohne Gewähr. Änderungen und Irrtümer vorbehalten! Änderungen von Messeterminen oder des Veranstaltungsorts sind dem jeweiligen Messeveranstalter vorbehalten. Dieses ist nicht die offizielle Webseite der Messe.
Messedienstleister
FAQ
Wo findet die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography statt?
Die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography findet in Monterey, Monterey Marriott statt.
Wann findet die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography statt?
Besuchen Sie die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography vom 29. Sep. - 03. Okt. 2024.
Wie oft findet die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography statt?
Die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography findet jährlich statt.
Welche Art von Messe ist die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography?
Die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography ist eine Messe für Fotografie, Lasertechnik und Nanotechnologie.
Welche Öffnungszeiten hat die SPIE Photomask Technology + EUV Lithography in Monterey?
Öffnungszeiten: Sonntag, 29.09. 10:00 – 16:00 Uhr; Montag, 30.09. 10:00 – 16:00 Uhr; Dienstag, 01.10. 10:00 – 16:00 Uhr; Mittwoch, 02.10. 09:30 – 16:00 Uhr; Donnerstag, 03.10. 10:00 – 16:00 Uhr;
Aktualisiert: 02.09.2024 12:35